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            光電直讀光譜儀系列
              2012-7-10  瀏覽 2773 次

            產品名稱 規格級別 單位 品牌

            WLD-4C型光電直讀光譜儀

            應用領域

            儀器廣泛用于鑄造、冶金、各類機械制造、船舶、汽車、化工等多種行業,是冶金爐前快速定量分析、進廠材料的檢測以及金屬材料質量監控實驗室和產品材料分析領域的必要儀器。

            儀器特點

            擴展了分析領域,可用于多種基體分析:黑色金屬:Fe、Co、Ni、Ti,有色金屬Cu、 Al、Pb、Mg、Zn、Sn。

            采用高重復性、高穩定性的激發光源,激發頻率可在150~600HZ之間變化,可根據用戶所分析材質選用。以達到最佳的分析效果。

            采用高集成化的采集和控制系統,自動化程度高。

            分析速度快、抗干擾能力極強、重復性好、穩定性好。

            儀器結構設計新穎合理,外型美觀,外觀比例協調,更加小型化、集成化。

            激發室采用最新滑軌式拉門,操作者得心應手。

            采用Windows系統下的中文操作軟件,方便簡捷。

            建有數據庫,可通過網絡遠程傳輸數據,方便快捷。

            可以建立質量管理軟件程序,方便質量管理與監控。

            抗震性能強,不需做防震基礎。

            采用局部恒溫,既保證了儀器的正常運行,又降低了對環境的要求。

            使用維護簡單方便,維護成本低

            技術參數:

            激發光源

            *電源電壓:50Hz、220V±1%

            *輸入功率:1.0KVA

            光學系統:

            *分析波段范圍:175450nm

            *凹面光柵:

            曲率半徑:750nm

            刻劃密度:2400/mm

            刻劃面積:30×50mm2

            閃耀波長(一級):300nm

            線色散:0.55nm/mm

            *入射狹縫寬度:20um

            *出射狹縫寬度:50um、75um

            *允許最多通道:36

            *分光儀局部恒溫:30±0.1

            測控系統:

            *測量方式:分段積分

            *重現性:RSD0.2%

            *光電倍增管高壓電源:電壓:—1000V;穩定度:8小時優于0.5%

            *光電倍增管高壓調節:計算機控制,操作便捷
            數據處理系統

            計算機:采用工控嵌入式工控主板及液晶顯示,集成度高,可靠性好,采用高集成化的采集和控制系統,自動化程度高。

            ● 2480列中英文連續打印機

            本光譜儀采用的軟件是在多年生產使用過程中,經不斷改進重新編制而成的,具有更為直觀易懂、便于掌握、得心應手的特點。

            此分析軟件為Windows系統下的中文操作軟件,操作方便簡捷。同時,完全從用戶的角度考慮,適合分析人員的操作習慣。分析軟件具有光譜分析的基本分析功能,如:建立分析曲線、控制樣品分析等,同時還具有基體校正、干擾校正等高級算法,提高分析精度。分析結果可進入數據庫,方便進一步處理;還具有網絡接口,方便數據的傳輸。對于不熟悉光譜分析軟件的分析人員,分析程序中有大量提示信息和聯機幫助功能,指導分析工作的繼續。另外,本程序增加了多媒體教學功能,方便用戶進一步學習和操作。

            主要分析元素及測量范圍

            基體元素含量均可分析(其他未列元素協商解決)

            元素

            含量范圍%

            元素

            含量范圍%

            Al

            0.00110.0

            Nb

            0.0013.0

            As

            0.0010.30

            Nd

            0.0010.50

            B

            0.00050.50

            Ni

            0.00130.0

            Be

            0.0010.50

            P

            0.0012.0

            Bi

            0.0010.50

            Pb

            0.00110.0

            C

            0.0014.20

            Pr

            0.0010.50

            Cd

            0.00050.50

            S

            0.0010.50

            Ce

            0.0010.50

            Sb

            0.0010.50

            Co

            0.00215.0

            Si

            0.00125.0

            Cr

            0.00130.0

            Sm

            0.00050.50

            Cu

            0.00510.0

            Sn

            0.00110.0

            Fe

            0.00210.0

            Sr

            0.0010.50

            Ga

            0.00050.50

            Ti

            0.0013.0

            La

            0.0010.50

            V

            0.00056.0

            Mg

            0.00510.0

            W

            0.0122.0

            Mn

            0.00120.0

            Zn

            0.0140.0

            Mo

            0.00110.0

            Zr

            0.0013.0

            WLD-1C1/3C1光電直讀光譜儀

            產品描述:

            WLD-1C1光電直讀光譜儀適合對有色金屬(如鋁、鋁合金、鎂合金、銅)多種基體的快速定量分析。WLD3C1光電直讀光譜儀適合對黑色(如高合金鋼,合金鑄鐵、鎳基)有色金屬(如鋁、銅及合金、鎂合金)多種基體的快速定量分析。該型號儀器除具備系列老產品(750型)分析精密度高、性能穩定等優點外,特別對各類鑄造鋁合金,更具有良好的分析效果。

            儀器特點

            多通道檢測方式,分析速度快,樣品上機15-50秒鐘打印結果。

            結構合理,機械性能穩定,24H光學系統漂移量小于10μm。

            密封充氮氣光學系統用于分析波長小于230nm紫外波長的元素。

            程控變頻火花光源,性能穩定,適用范圍廣。

            測量系統運營可靠,有效降低故障率。

            分段積分的測量方式,分析動態范圍寬。

            用光導纖維傳遞信息,有效抑制了電磁干擾。

            ● Windows操作系統應用軟件,操作簡單方便。

            ●   可根據用戶的不同要求增加通道。

            技術參數:

            ●  激發光源:

            程控變頻火花光源

            電源電壓:AC 220V±10%50Hz

            輸出功率:400VA

            頻率:10Hz800Hz  八檔可選

            引燃:脈沖幅度:10KV

            ●  光學系統:

            分析波段范圍:220550nmWLD-1C1);175450nmWLD-3C1

            色散率:0.55nm/mm(一級)

            凹面光柵:曲率半徑750nm,刻槽密度2400/mm

            入射狹縫寬:20um

            出射狹縫寬:50,75um兩種

            安裝通道數:36個(最多)

            局部恒溫:30℃±0.1

            ●  測控系統:

            測量方式:分段積分

            測量系統重現性:RSD0.2%

            光電倍增管高壓電源:電壓—1000V穩定度(8h)優于0.5%

            數據處理系統:

            ●  硬件配置:品牌計算機;擴展CAN接口;2480列中文打印機

            ●  應用軟件:為Windows系統下的中文操作軟件,操作方便簡捷。同時,完全從用戶的角度考慮,適合分析人員的操作習慣。分析軟件具有光譜分析的基本分析功能

            ●  外形尺寸:主機:1500(L)×1000(D)×1200(H);總重量:約480kg

            試驗室條件:

            ●  環境:溫度1525,相對濕度不大于70%

            ●  氬氣純度:99.999%

            ●  電源:AC  50Hz

            ●  分兩組供電:激光電源:單相220V±10%1KVA;WLD-1C1主機:單相220V±10%1KVA;WLD-3C1主機:380V±10%1.5KVA,測量系統:0.5KVA

            ●  實驗室面積≥10平方米

            主要分析元素及測量范圍

            (未列元素協商解決)

            元素

            含量范圍%

            元素

            含量范圍%

            元素

            含量范圍%

            Fe

            基體

            Ti

            0.0013.00

            Cr

            0.00530.00

            Sb

            0.0010.50

            P

            0.0010.50

            Co

            0.0115.00

            Ni

            0.00530.00

            As

            0.0010.30

            S

            0.0010.50

            Al

            基體

            Cu

            基體

            La

            0.0010.50

            B

            0.0010.50

            Mg

            基體

            V

            0.0023.00

            Ce

            0.0010.50

            C

            0.0014.00

            Pb

            0.00110.0

            Cd

            0.0010.50

            Be

            0.0010.50

            Mo

            0.015.00

            Zr

            0.0013.00

            Sr

            0.0010.50

            Ga

            0.0010.50

            W

            0.0120.00

            Nb

            0.0013.00

            Nd

            0.0010.50

            Pr

            0.0010.50

            Si

            0.00125.00

            Bi

            0.0010.50

            Zn

            0.0140.00

            Sm

            0.0010.50

            Mn

            0.00220.00

            Sn

            0.00110.00

            應用領域

            儀器廣泛用于鑄造、冶金、各類機械制造、船舶、汽車、化工等多種行業,是冶金爐前快速定量分析、進廠材料的檢測以及金屬材料質量監控實驗室和產品材料分析領域的必要儀器。

            工作原理

            固體塊狀分析樣品——組成物質的不同元素,在光源作用下被激發,發射出各自的特征光譜光,經過透鏡與入射狹縫投射到光柵上,經光柵表面具有一定角度刻線的作用,將不同特征的光衍射為單一波長的光譜線(即各元素的光譜線),光譜線的強度與所屬元素的含量成一定的函數關系,各元素光譜線通過相對應的出射狹縫,投射到光電倍增管上,光電倍增管將光譜線的信號轉變成電流信號,送到測控系統,再經過測控系統進行放大、數模轉換,最后送到數據處理系統測算出各個元素光譜線的強度值,最后經計算機計算、打印出各個元素的百分含量值。

            WLD-2D型電感耦合等離子體(ICP)多道光譜儀

            產品描述:

            全新的固態光源,具有正反向功率保護、駐波比保護和溫度保護等特點,性能更加穩定可靠。

            儀器特點:

            全新蠕動泵進樣系統,精確控制進樣速度(0.1~10ml/min)。

            新型光電倍增管安裝結構設計(專利號:ZL200720190236.1),可以設置更多的通道,最多可達40個。

            新型出射狹縫設計,結構合理,調試方便快捷,光學系統漂移小。

            新型采集控制系統設計,自動化程度高,抗干擾能力強。

            新型軟件設計,多國語言操作界面;具有遠程數據傳輸功能;界面簡潔大方,功能強大,集成度高。

            應用范圍

            本儀器可廣泛地應用于環保、地質、冶金、化工、農業、食品、醫學等行業,用于微量及痕量元素的快速分析。

            WLD-2CICP光電直讀光譜儀

            儀器簡介

            ICPInductively Coupled Plasma)多道光電直讀光譜儀系電感耦合高頻等離子體為激發光源的光、機、電、計算機為一體的大型精密儀器,國內唯有我廠能生產該類產品,WLD2CICP多道光電直讀光譜儀填補國內分析儀器領域的空白,1999年被列為國產科學儀器推薦產品。

            應用領域:

            可配置于環境監測、地質、冶金、化工、農業、食品、醫學等行業,用作微量元素的快速自動分析。如:飲用水、廢水、金屬、礦物、土壤、粉塵、植物、食物、原油產品,醫院及藥房樣品,還有化學制品的溶液分析。

            儀器特點:
            ● ICP
            可激發的元素60種以上,且靈敏度高,檢出限低元素檢出限在ng/ml級,能滿足精確分析的要求,分析精密度RSD≤1.5%,分析速度快,動態范圍廣,分析元素濃度范圍可到45個數量級。分析費用低,干擾少,操作和維修簡單容易

            所需樣品前處理少,只需溶解制定成一定濃度的溶液(不僅可消除樣品結構干擾,同時有利于標準樣品的制備)

            具有自動扣除背景功能

            優良的激發光源。40MHz自激定式帶功率反饋控制電路的高頻發生器,頻率高,背景強度低,自動點火,具有恒溫裝置,穩定性高,使儀器預熱時間大為縮短,大大提高分析精度和準確度。

            采用中文操作系統,標準的Windows應用軟件,操作簡單、靈活快捷、具有良好的容錯功能

            技術參數:
            分光系統

            光路形式:Paschen-Runge
            凹面光柵:曲率半徑 750mm
                 刻線密度 2400/mm
                 刻劃面積 30*50(mm)2
                 逆線色數 0.55nm/mm(一級)
                 波段范圍 190-500nm
            恒溫:30±0.5
            測控系統
             
            測量方式:分段積分
             
            測量精度:0.2%
             
            動態范圍:106
            高頻發生器
             
            振蕩頻率:40MHz
             
            輸出功率: 0.7-1.2KW
             
            功率穩定度:0.5
            數據處理系統
             
            配置:品牌計算機,80列中英文連續打印機,微機數據采集控制板
            應用軟件:采用Windows95/98中文操作系統,標準的Windows應用軟件,操作簡單、靈活快捷、具有良好的容錯功能。
            分析軟件的基本功能:
             譜線掃描(手動和自動)
             建立工作曲線
             校準工作曲線
             扣除背景(空白法、動態法)
             定量分析(曲線法、標準加入法)
             扣除譜線干擾(系數法)

            元素檢出限:

            D.L(ng/ml)

            元素

            1

            Be/Mg/Ca/Sr/Ba/Sc/Y/Mn/Cu/Yb/Lu

            15

            Ti/Zr/V/Cr/Fe/Os/Co/Zn/Cd/B/La/Eu

            510

            Hf/Mo/Re/Ni/Ag/Au/Si/Gd/Tb/Dy/Ho/Er/Tm

            1030

            Nb/Ta/W/Ru/Rh/Ir/Pd/Pt/Hg/Al/Ga/In/Tl/Ge/Sn/P/Sb/Bi/Ce/Pr/Nd/Sm

            3010

            Pb/As/Se/Te/Th

            100300

            Rb/U

            3001000

            Cs/S

            AES-7100/7200/直流電弧專用發射光譜儀

            產品介紹:

            最新推出的“AES-7100/7200 /直流電弧專用發射光譜儀”首次將交、直流電弧激發光源與凹面光柵分光系統及光電倍增管接收系統相結合,構成全新的組合模式,分別為有色、冶金和地質系統研制成功了專用的直讀光譜儀,在國內尚屬首創。它繼承了本公司在發射光譜領域四十多年的經驗積累和技術沉淀,沿用火花、ICP直讀光譜儀最新技術成果,使電弧激發這項“古老”而又“經典”的分析技術進入了全新的應用領域。

            儀器特點                            

            ●  將交流或直流電弧激發光源,與凹面光柵分光系統及光電倍增管接收系統相結合,構成全新的組合模式,具有全新的光路、結構及外形,在國內尚屬首創。

            ●   樣品無需化學消解和稀釋,可直接對粉末狀樣品進行測定。

            ●  具有交、直流兩種激發光源,分別用于高純金屬及地質樣品的測定,且有專用的分析方法。

            ●  分析靈敏度高,測定高純金屬、地球化學等樣品中的多種微量元素的檢出限均符合各系統的規范要求。    

            ●  提供快速的光譜定量分析,一個樣品的檢測時間僅需35s                 

            ●  針對不同元素的蒸發曲線,可為每條譜線單獨設定曝光時間,強弱譜線可同步測量。

            ●  水冷式電極夾配以自動控溫裝置,延長電極夾的使用壽命。

            ●  采用Windows 下的中文操作系統,軟件設計針對性強,具有背景扣除、內標及標樣校正等功能,擁有強大的數據庫,便于分析數據的存儲、檢索及處理。操作界面人性化 、集成度高、簡便快捷、易于掌握。

            ●  運行成本低,無需氬氣和氧氣等輔助氣體,主要的消耗品僅是形狀簡單的石墨電極。

            AES-7100 高純金屬專用發射光譜儀(直流電弧)應用領域

            高純氧化鎢中19種雜質元素

            高純氧化鉬中17種雜質元素

            高純氧化鉬中微量鎢的測定

            高純金屬粉末及氧化物,如銅、鋁等

            稀土元素粉末及氧化物

            AES-7200 地質樣品專用發射光譜儀(交流電弧)應用領域 

            地球化學填圖配套元素分析

            地質普查及地球化學找礦 

            地球化學樣品中痕量金 

            水系沉積物 

            巖石、土壤 

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